kri 大尺寸射頻離子源樹(shù)脂鏡片高性能 ar 工藝
樹(shù)脂為手機(jī)行業(yè)目前常用的鏡片基材, 為了減少鏡片反射, 提升透過(guò)率, 會(huì)在鏡片表面鍍 ar 增透膜 (減反膜), 它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜, 可在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)將元器件表面的反射率最小化. ar coating 可以顯著提高樹(shù)脂基材的透過(guò)率. 光線在透過(guò)不同介質(zhì)時(shí)會(huì)產(chǎn)生折射和反射, 當(dāng)加上單面 ar coating 后, 濾光片會(huì)提升 3～5%的透光率, 讓圖像更清晰且讓鏡片不容易起霧.
手機(jī)鏡頭等上游供應(yīng)商在生產(chǎn)工藝中通常使用離子源進(jìn)行輔助沉積, 由此改善由手機(jī)攝像頭內(nèi)樹(shù)脂鏡片非有效徑區(qū)域透光跟反射光線形成的 flare 現(xiàn)象, 提高手機(jī)攝像頭的成像質(zhì)量, 提升鏡頭競(jìng)爭(zhēng)力. 在鍍膜過(guò)程中, 同時(shí)需要解決諸如脫膜, 光譜的不穩(wěn)定, 均勻性不佳及無(wú)法在大型蒸鍍機(jī)穩(wěn)定的大量生產(chǎn)等問(wèn)題.
上海伯東美國(guó) kri大尺寸射頻離子源rficp 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩(wěn)定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 解決了在樹(shù)脂基材鏡頭上無(wú)法達(dá)到高質(zhì)量鍍膜要求的問(wèn)題, 同時(shí)也提升了企業(yè)生產(chǎn)效能.
客戶原使用國(guó)產(chǎn)傳統(tǒng)燈絲型離子源 (霍爾離子源), 因離子源高溫, 發(fā)熱, 易造成樹(shù)脂融化, 產(chǎn)生磨砂物質(zhì),導(dǎo)致表面污染, 對(duì)材料本身造成結(jié)構(gòu)性破壞; 傳統(tǒng)燈絲型霍爾離子源每天需要更換燈絲, 保養(yǎng)時(shí)間長(zhǎng), 對(duì)生產(chǎn)效率有一定的影響. 經(jīng)過(guò)推薦客戶改裝美國(guó)進(jìn)口 kri 大尺寸射頻離子源, 提高折射率, 增加樹(shù)脂鏡片表面的膜層致密度, 增加膜強(qiáng)度, 整體上提升了鍍膜效果！
鍍膜材料: 高折射率材料 ti2o5 (氧化鈦), 低折射率材料 sio2 (氧化硅）
應(yīng)用: 樹(shù)脂鏡片鍍 ar 增透膜（減反膜）
鍍膜設(shè)備: 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 配置美國(guó) kri射頻離子源rficp 380
測(cè)試環(huán)境: 80c / 80% 濕度, 85c / 95% 濕度, 連續(xù) 1,500 小時(shí)高溫高濕嚴(yán)苛環(huán)境測(cè)試
上海伯東美國(guó) kri射頻離子源rficp 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)!射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.上海伯東是美國(guó)kri 離子源中國(guó)總代理.
美國(guó)krirficp射頻離子源技術(shù)參數(shù)：
型號(hào)
rficp 40
rficp 100
rficp 140
rficp 220
rficp 380
discharge 陽(yáng)極
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
離子束流
>100 ma
>350 ma
>600 ma
>800 ma
>1500 ma
離子動(dòng)能
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
柵極直徑
4 cm φ
10 cm φ
14 cm φ
20 cm φ
30 cm φ
離子束
聚焦, 平行, 散射
流量
3-10 sccm
5-30 sccm
5-30 sccm
10-40 sccm
15-50 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型壓力
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
長(zhǎng)度
12.7 cm
23.5 cm
24.6 cm
30 cm
39 cm
直徑
13.5 cm
19.1 cm
24.6 cm
41 cm
59 cm
中和器
lfn 2000
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵,真空規(guī),高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 dr. kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)利. 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領(lǐng)域.
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上海伯東: 羅先生