光柵的基本測(cè)量原理

發(fā)布時(shí)間:2023-11-15
兩光柵尺沿線紋方向保持一個(gè)很小的夾角θ、刻劃面平行且有一個(gè)很小間隙(一般0.05mm,0.1mm),在光源照射下,在與兩光柵線紋角θ的平分線相垂直的方向上,形成明暗相間條紋——莫爾條紋(橫向莫爾條紋),兩條亮(暗)紋間的距離稱莫爾條紋寬度w。
莫爾條紋特性:
1)光學(xué)放大作用
放大比例k為
若d=0.01mm,θ=0.01rad,則w=1mm,k=100。
2)均化誤差作用
莫爾條紋→大量光柵線紋形成→誤差平均效應(yīng)→克服個(gè)別/局部誤差→提高精度。
3)莫爾條紋移動(dòng)與柵距移動(dòng)成比例(同步性)
光柵移動(dòng)一個(gè)柵距d→莫爾條紋移動(dòng)一個(gè)間距w
光柵移動(dòng)方向相反,莫爾條紋移動(dòng)方向也相反。
在一個(gè)柵距d內(nèi),光電元件所檢測(cè)的光強(qiáng)變化為正弦(或余弦)變化。
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