微流控芯片表面修飾的方法

發(fā)布時間:2024-07-30
聚二甲基硅氧晶片是目前國內(nèi)外研究最多、應(yīng)用的一類高分子聚合物芯片。微流體晶片表面問題復(fù)雜。, 表面疏水性很高,未處理表面水的接觸角度過大,清洗片與電泳分離時,微通道中極易出現(xiàn)氣泡,第二,該芯片的導(dǎo)熱性較差,比玻璃晶片低約五到六倍的導(dǎo)熱性,對焦耳熱有效散發(fā)極為不利,高分散場的應(yīng)用受到很大限制,再者,微流控芯片是多孔的,被吸附的疏水小分子如其動力學(xué)直徑小于芯片微孔直徑,晶片內(nèi)部將會擴散、遷移,這不僅會導(dǎo)致試樣丟失,還會引起芯片本身的溶脹性、晶片表面的扭曲和微孔變形;晶片表面是動態(tài)變化的,由于晶片上的分子沒有共價交聯(lián),所以分子具有一定的自由度,靠近表面的分子就能改變其分子構(gòu)象,晶片內(nèi)的自由分子能遷移到晶片表面,經(jīng)過表面修飾后的親水性表面能自動恢復(fù)其親水性,從而大大限制了晶片的使用時間和穩(wěn)定性。在芯片實驗中減少了重復(fù)性。pdms晶片的復(fù)雜表面特性,近年來已成為限制其廣泛應(yīng)用的主要因素。一直以來,我們都在努力研究pdms表面特性和表面修飾,尋找種綠色、簡便、高效的pdms表面修飾技術(shù),來構(gòu)建抗生物 污染的pdms芯片??梢灾鸩浇鉀Q這些問題,從而進一步改善pdms的表面性能 ,擴大pdms芯片的應(yīng)用范圍。下面是最近幾年對pdms微芯片進行表面修飾的研究進展。
pdms微流控芯片表面修飾方法主要有高能氧化技術(shù)、動態(tài)修飾技術(shù)、本體修飾技術(shù)、溶膠- -凝膠技術(shù)、 層疊組裝修飾、化學(xué)氣相沉積、表面共價嫁接技術(shù)等。
1、高能量氧化工藝
lee等人利用氧等離子體對pdms晶片表面進行處理,使其表面形成帶負電的基團,然后對pdms表面進行靜電改性,從而有效地抑制pdms表面蛋白的非特異性吸附。pruden等人利用氨等離子體對pdms晶片表面進行處理,通過控制處理時間、溫度及等離子體強度,使pdms晶片表面、氨基及亞胺基功能化。
2、動態(tài)修整
ocvirk等人通過改變pdms芯片微通道上對四基氧化氨(tbac1)和十烷基硫酸鈉(sds)進行修飾,以改變其表 面電勢,從而有效控制電滲。對非離子型表面活性劑tween 20對pdms芯片微通道進行動態(tài)修飾。因為tween 20分子內(nèi)部的疏水鏈可以通過疏水作用來固定在pdms芯片的微通道表面,而其分子中的p氧乙烯鏈部分可形成親水性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)排布,該方法能較好地抑制電滲流,同時還能有效地抑制芯片微通道上氨基酸的非特異性吸附,實現(xiàn)四個氨基酸的高效、快速分離。
3,本體修整
luo等人將碳煉酸(uda)作為添加劑與液體pdms混合固化,從而制備出本體修飾的pdms芯片,提高分析物的分離效率,并改善峰展。在pdms芯片制造過程中,肖艷等將聚乳酸聚乙醇作為添加劑加入到pdms芯片預(yù)聚體中,實現(xiàn)了摻雜改性。研究發(fā)現(xiàn),本體修飾的pdms芯片表面eof和接觸角均有下降,能有效地抑制pdms蛋白的非特異性吸附,并成功地用于兩種氨基酸的有效分離。
4溶膠單凝膠工藝
bertson和rortlari使用金屬溶膠凝膠法修飾pdms芯片表面 ,其過程如下:金屬醇鹽(異丙酶),異丙醇鉻,三異丁釩氧合成氨)是通過水蒸v擴散和修飾pdms晶片通道表面,經(jīng)水解形成穩(wěn)定的金屬氧化物。井且在整個pdms芯片中均勻分布,不產(chǎn)生任何化學(xué)反應(yīng),從而大大提高了pdms芯片微通道表面的親水性。
5層層疊組裝修飾
chen等人利用牛血清白蛋白膜對pdms芯片進行多次組裝修飾 ,使eof的穩(wěn)定性得到提高,實現(xiàn)了環(huán)境污染苯二胺、氨酚類、神經(jīng)遞質(zhì)多巴胺和腎上腺素的有效分離,wang在pdms芯片微通道中對聚烯丙基二甲基氧和聚4-苯乙烯酸鈉鹽進行了有效的分離,并對其進行了有效的分離。
6.化學(xué)氣相淀積法
moorcroft研究,pdms晶片經(jīng)過臭氧或紫外光處理,再通過氣相沉積技術(shù)在處理后的晶片表面沉積sio2,以實現(xiàn)微量dna序列的檢測。另外,larger等人將聚五氟和對位二相沉積在pdms芯片表面,實現(xiàn)了對細胞的捕捉,并有效地抑制了羅丹明b在晶片表面的非特異性吸附。
7.表面共價嫁接
hu等人在pdms芯片微通道上嫁接了丙烯酸、酞胺、二甲基酞、聚(乙烯基乙二醇)丙烯酸酯和聚(乙烯基乙醇甲 氧基丙烯酸脂等,使晶片通道表面變得親水性,并保持30小時左右。tseng等通過使用h20 :的氧化反應(yīng)和硅烷化處理pdms芯片表面,可以成功地修飾具有氨基的pva。修飾的pdms芯片表面具有長時間的穩(wěn)定性,可以應(yīng)用于生物分子的固定,抑制蛋白的非特異性吸附。
8.微珠修飾技術(shù)
陳等人提出了一種在pdms晶片微通道中修飾硅顆粒的新方法 ,這種微??梢詫⒚?、蛋白質(zhì)等生物大分子固定在晶片通道表面,使之集成和系統(tǒng)研究。
近年來,國內(nèi)外對pdms表面修飾的研究較多,但各種修飾方法名有其優(yōu)缺點,例如,動態(tài)修飾技術(shù)可以簡便快速地減少分析物在pdms微道表面的非特異性吸附。但這種動態(tài)修飾層在電泳分離時會出現(xiàn)一些損失,因而穩(wěn)定性較差。盡管化學(xué)共價修飾可以改善修飾層的穩(wěn)定性,但是,在修飾過程中往往很繁瑣,有些需要很長時間。有些需要使用有機或有毒試劑,由于pdms芯片易溶于有機試劑,造成微通道的扭曲變形因此大大限制了其在生化分析中的應(yīng)用范圍。
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