離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對(duì)象的超高精度非接觸式修形及拋光,精度可達(dá)亞納米級(jí),被譽(yù)為終拋光.離子束拋光機(jī)的最核心部件是可聚焦的高能量離子源.上海伯東某客戶為專業(yè)精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商,主要產(chǎn)品為離子束拋光機(jī)、磁流變拋光機(jī)等,提供超精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù),是一家超精密光學(xué)元器件解決方案提供商.經(jīng)推薦,該客戶采用上海伯東美國kri直流電源式考夫曼離子源kdc系列成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī).
kri離子源用于離子束拋光機(jī):
應(yīng)用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體/精密光學(xué)
產(chǎn)品類別：高精密光學(xué)器件
加工指標(biāo)：
1.加工尺寸能力5-1200mm；
2.采用非接觸式加工,無邊緣效應(yīng),不產(chǎn)生亞表面損傷；
3.亞納米加工精度,可實(shí)現(xiàn)面型rms<3nm高精度拋光能力；
4.加工光學(xué)元器件形狀有：平面、球面、非球面、自由曲面、離軸非球面等；
5.加工光學(xué)元器件材料有：石英玻璃、微晶、超低膨脹玻璃、kdp晶體、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、紅外材料等.
美國kri考夫曼公司新升級(jí)gridded kdc系列離子源,新的特性包含自對(duì)準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制.考夫曼離子源kdc系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用.考夫曼離子源通過控制離子的強(qiáng)度及濃度,使拋光刻蝕速率更快更準(zhǔn)確,拋光后的基材上獲得更平坦,均勻性更高的薄膜表面. kdc考夫曼離子源內(nèi)置型的設(shè)計(jì)更符合離子源在離子拋光機(jī)內(nèi)部的移動(dòng)運(yùn)行.
上海伯東美國kri考夫曼離子源kdc系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號(hào):
型號(hào)
kdc 10
kdc 40
kdc 75
kdc 100
kdc 160
discharge陽極
dc電流
dc電流
dc電流
dc電流
dc電流
離子束流
>10 ma
>100 ma
>250 ma
>400 ma
>650 ma
離子動(dòng)能
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
柵極直徑
1 cm φ
4 cm φ
7.5 cm φ
12 cm φ
16 cm φ
離子束
聚焦,平行,散射
流量
1-5 sccm
2-10 sccm
2-15 sccm
2-20 sccm
2-30 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2,其他
典型壓力
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
長度
11.5 cm
17.1 cm
20.1 cm
23.5 cm
25.2 cm
直徑
4 cm
9 cm
14 cm
19.4 cm
23.2 cm
中和器
燈絲
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵,真空規(guī),高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).1978 年 dr. kaufman 博士在美國創(chuàng)立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領(lǐng)域.
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