近日，國家標(biāo)準(zhǔn)計劃《光學(xué)和光子學(xué) 光學(xué)薄膜 第1部分：術(shù)語》編制完成并征求意見，時間截止到2023年7月29日。主要起草單位為沈陽儀表科學(xué)研究院有限公司、中國兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所、中科院大連化學(xué)物理研究所、同濟(jì)大學(xué)、浙江大學(xué)、江蘇曙光光電有限公司、云南北方光學(xué)科技有限公司、上海唯視銳光電技術(shù)有限公司等。
光學(xué)薄膜元件廣泛地應(yīng)用于與光學(xué)和光子學(xué)相關(guān)的各類科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域中，用于實現(xiàn)反射、分束、濾光等不同的光學(xué)功能，是光學(xué)系統(tǒng)中不可替代的重要組成部分。隨著科技的不斷進(jìn)步，光學(xué)薄膜元件向著性能要求更高、需求種類更加多樣化的方向發(fā)展。因此有必要針對光學(xué)薄膜技術(shù)，專門制定一套技術(shù)內(nèi)容與國際接軌的國家標(biāo)準(zhǔn)。這既有利于推動我國光學(xué)薄膜行業(yè)規(guī)范有序發(fā)展，又能更好地促進(jìn)相關(guān)領(lǐng)域的貿(mào)易、交流和技術(shù)合作。gb/t 26332《光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)薄膜》就是在這種背景下起草制定的。
本標(biāo)準(zhǔn)共包含3章和一個附錄a。第1章:規(guī)定了本標(biāo)準(zhǔn)的范圍;第⒉章:規(guī)定了規(guī)范性引用文件;第3章:規(guī)定了術(shù)語和定義，分為基本術(shù)語和定義、按功能定義薄膜、常見的薄膜缺陷定義三類。附錄a:給出常見的薄膜缺陷的顯微照片示例。
本文件界定了光學(xué)薄膜相關(guān)術(shù)語。術(shù)語分為3類:基本術(shù)語和定義、按功能定義薄膜、常見的薄膜缺陷定義。本文件適用于光學(xué)元器件及基底的表面鍍膜，給出了光學(xué)薄膜技術(shù)指標(biāo)的標(biāo)準(zhǔn)表述形式，定義了通用特性和必要的測試和測量方法，但不擬用于規(guī)定鍍制方法。本文件不適用于眼科光學(xué)(眼鏡)的表面鍍膜。
本文件規(guī)定的術(shù)語是gb/t26332系列標(biāo)準(zhǔn)的基礎(chǔ)，在使用和參考本文件時，請注意閱讀以下說明:
a)鍍膜表面的光學(xué)特性可以用分光光度值來描述，這些特性與電磁波傳播的能量(輻射或發(fā)光)相關(guān)，并為波長、入射角和偏振態(tài)的函數(shù)。另外，散射也是影響鍍膜表面光學(xué)特性的因素。
注1:在表述與光譜相關(guān)的函數(shù)時，通常將波長x寫入圓括號內(nèi)作為符號的一部分來表示。
注2:波長可用波數(shù)或光子能量(hv)來代替。h=普朗克常數(shù); v=頻率。建議波長的單位為納米(nm)或微米(μm),波數(shù)的單位為厘米的倒數(shù)(cm1)，光子能量的單位為電子伏特(ev)。
b)當(dāng)入射角不為零時，薄膜的光學(xué)特性與入射光的偏振態(tài)有關(guān)，并且會影響出射光的偏振態(tài)。如有必要，可說明電矢量的方向與入射面之間的關(guān)系。
c)應(yīng)用于視覺領(lǐng)域的光學(xué)表面可用色度參數(shù)來表征。這些參數(shù)取決于參考的照明源、觀測者以及表面的光學(xué)特性。色度參數(shù)不屬于本文件。
隨著科技的不斷進(jìn)步，人們對光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用的光學(xué)薄膜相關(guān)術(shù)語的應(yīng)用越來越頻繁，本標(biāo)準(zhǔn)的實施，將規(guī)范這些術(shù)語的標(biāo)準(zhǔn)表述形式，便于人們對行業(yè)相關(guān)技術(shù)的溝通，也有利于相關(guān)技術(shù)內(nèi)容的描述方式與國際接軌，對促進(jìn)我國光學(xué)薄膜行業(yè)有序發(fā)展具有重要意義。
相關(guān)資料下載：
編制說明_光學(xué)和光子學(xué) 光學(xué)薄膜 第1部分：術(shù)語.pdf
征求意見稿_光學(xué)和光子學(xué) 光學(xué)薄膜 第1部分：術(shù)語.pdf