誠峰低溫等離子表面處理器在皮革工業(yè)中的應(yīng)用是怎么樣的呢？
根據(jù)所依賴的低溫等離子表面處理器的主要性質(zhì)，可以應(yīng)用于等離子體表面處理和化工生產(chǎn)，它們主要利用冷等離子體中電子、離子、自由原子核自由基的能量或活性誘發(fā)化學(xué)反應(yīng)或物理過程等。以及等離子體加熱、熱處理和熱加工，它們主要利用熱等離子體的高溫。
在整個皮革工業(yè)領(lǐng)域,低溫等離子體技術(shù)在以下幾個方面可能得到應(yīng)用。
1、誠峰等離子表面處理器在濕加工過程中的應(yīng)用
2、誠峰等離子表面處理器在鞣制過程中的應(yīng)用
因為膠原發(fā)生反應(yīng)的側(cè)鏈羧基數(shù)量有限，而且還存在著空間位阻、相間距離、離子化等因素。根據(jù)低溫等離子表面處理器的功能及其特性,選擇不同的等離子氣體可以選擇性地改變膠原纖維表面化學(xué)組成表面電荷。
利用膠原側(cè)鏈氨基的反應(yīng)活性，通過與側(cè)鏈氨基的反應(yīng)引入羰基、羧基、羥基等活性基團(tuán),是增加膠原側(cè)鏈羧基的有效手段。也可以引入醛基,因為醛基與膠原的氨基的反應(yīng)可以使膠原側(cè)鏈羧基的數(shù)量增加。這樣在保證革質(zhì)量的前提下，生產(chǎn)過程中限度提高了無鉻金屬,如鋯、鋁、鈦等的利用率,從而達(dá)到了無鉻鞣制并且高吸收清潔化鞣制工藝的效果。
隨著皮革工業(yè)的發(fā)展,國內(nèi)外對皮革及其制品提出了更高、更新的要求，促進(jìn)皮革工藝不斷得以改進(jìn)。如何提高上染率、減少能耗和環(huán)境污染，已成為皮革染整工段迫切需要解決的問題之一。根據(jù)皮革染色機(jī)理的分析，利用低溫等離子表面處理器，引入不同的活性基團(tuán)，如羰基、羧基、羥基、胺基等在膠原纖維上發(fā)生的氧化、裂解和刻蝕等作用。表現(xiàn)在明上染率高、革顏色均勻飽滿等,以及染色革的耐干、濕擦牢度,耐水洗堅牢度，耐溶劑堅牢度高于常規(guī)染色?？梢愿鶕?jù)染料類型,引入不同的低溫等離子體，從而有效地改變皮膠原纖維的表面電荷，如對堿性染料引入陰電荷羧基或磺酸基團(tuán)，酸性染料引入陽電荷氨基基團(tuán)，有利于與染料分子的化學(xué)鍵合，從而大大提高上染率，減少污染,降低能耗，為實現(xiàn)清潔化的皮革染色技術(shù)，開辟了新的思路。低溫等離子染色技術(shù)有望成為除了超臨界流體染色技術(shù)之外，又一重要的無水生態(tài)染。