常用的射頻等離子設(shè)備有三種刺激頻率:刺激頻率為40khz的等離子技術(shù)為超聲波等離子技術(shù)，13.56兆赫茲的等離子技術(shù)為射頻等離子技術(shù)，2.45ghz的等離子技術(shù)為微波等離子技術(shù)。由于超聲波等離子技術(shù)產(chǎn)生的自偏壓不同，超聲波等離子技術(shù)的自偏壓約為1千伏，射頻等離子技術(shù)的自偏壓約為250伏，微波等離子技術(shù)的自偏壓極低，三種等離子技術(shù)的機(jī)理也不同。
超聲射頻等離子設(shè)備技術(shù)的反應(yīng)是物理反應(yīng)，射頻等離子技術(shù)設(shè)備的反應(yīng)是物理和化學(xué)反應(yīng)，而微波等離子技術(shù)的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子清洗對(duì)清洗表面影響很大，所以在實(shí)際的半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中，多選用射頻等離子設(shè)備和微波等離子清洗。超聲等離子技術(shù)對(duì)等離子技術(shù)表面進(jìn)行物理清洗，除膠、毛刺磨光等，具有很好的物理清洗(效)果，典型的rf等離子技術(shù)設(shè)備是在反應(yīng)室中加入ar用作輔助處置的等離子技術(shù)清洗，而ar自身是稀有氣體，等離子技術(shù)ar不與表面反應(yīng)，而是通過(guò)離子體轟擊來(lái)清洗表面。
射頻等離子設(shè)備技術(shù)選用rf電源，也就是說(shuō)，我們的射頻等離子設(shè)備和rf等離子設(shè)備的區(qū)別在于它們所使用的匹配電源。rf是高頻交流變化電磁波的射頻電流量。低頻率電流量被稱(chēng)作1秒一千次的交流電壓，超過(guò)一萬(wàn)次的稱(chēng)之為高頻電流量，射頻就是這種高頻電流量。這樣區(qū)分這兩種設(shè)備就很容易了。