常用的射頻等離子設備有三種刺激頻率:刺激頻率為40khz的等離子技術為超聲波等離子技術，13.56兆赫茲的等離子技術為射頻等離子技術，2.45ghz的等離子技術為微波等離子技術。由于超聲波等離子技術產(chǎn)生的自偏壓不同，超聲波等離子技術的自偏壓約為1千伏，射頻等離子技術的自偏壓約為250伏，微波等離子技術的自偏壓極低，三種等離子技術的機理也不同。
超聲射頻等離子設備技術的反應是物理反應，射頻等離子技術設備的反應是物理和化學反應，而微波等離子技術的反應是化學反應。超聲等離子清洗對清洗表面影響很大，所以在實際的半導體生產(chǎn)應用中，多選用射頻等離子設備和微波等離子清洗。超聲等離子技術對等離子技術表面進行物理清洗，除膠、毛刺磨光等，具有很好的物理清洗(效)果，典型的rf等離子技術設備是在反應室中加入ar用作輔助處置的等離子技術清洗，而ar自身是稀有氣體，等離子技術ar不與表面反應，而是通過離子體轟擊來清洗表面。
射頻等離子設備技術選用rf電源，也就是說，我們的射頻等離子設備和rf等離子設備的區(qū)別在于它們所使用的匹配電源。rf是高頻交流變化電磁波的射頻電流量。低頻率電流量被稱作1秒一千次的交流電壓，超過一萬次的稱之為高頻電流量，射頻就是這種高頻電流量。這樣區(qū)分這兩種設備就很容易了。