等離子清洗機(jī)工作時(shí)的配合使用的氣體：
等離子清洗機(jī)由于其自身的特點(diǎn)在很多產(chǎn)品生產(chǎn)的過(guò)程中都有一席用武之地。在等離子清洗機(jī)工作清清洗的過(guò)程中，需要配合著不同的氣體，才能將等離子清洗機(jī)的清洗效果達(dá)到理想狀態(tài)。
按氣體分成：使用的氣體之一就是惰性氣體氬氣（ar），真空腔清洗過(guò)程中配合氬氣（ar）往往可以有效得去除表面納米級(jí)污染物。經(jīng)常應(yīng)用在引線鍵合，芯片粘接銅引線框架，pbga等工藝中。
如果想增強(qiáng)腐蝕效果，就請(qǐng)通入氧氣（o2）。通過(guò)配合氧氣（o2）在真空腔清洗，可有效的去除有機(jī)污染物，比如光刻膠等。通入氧氣（o2）比較多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工藝。
還有一些比較難去除的氧化物可利用氫氣（h2）配合清洗，條件是要在密閉性非常好的真空情況下使用。還有一些特殊氣體類(lèi)似于四氟化碳（cf4），六氟化硫（sf6）等，蝕刻和去除有機(jī)物的效果會(huì)更加顯著。但這些氣體的使用前提是要有耐腐蝕氣路和腔體結(jié)構(gòu)，另外自己要戴好防護(hù)罩和手套才能工作。
還有要說(shuō)的一種常用氣體就是氮?dú)猓╪2）。這種氣體主要是配合在線式等離子對(duì)材料表面活化和改性的應(yīng)用。當(dāng)然真空環(huán)境下也可以使用。氮?dú)猓╪2）是提高材料表面侵潤(rùn)性的。
現(xiàn)在等離子清洗機(jī)通常為2路氣體，有時(shí)候我們會(huì)嘗試讓氣體去組合比例配合清洗，來(lái)達(dá)到不一樣的效果。