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如果你不經(jīng)常進行視頻渲染或網(wǎng)游多開，是前者好。反之則后者好某網(wǎng)站的橫向對比評分~intel core i5-4200m @ 2.50ghz 4199 intel core i5-4200u @ 1.60ghz 3348 intel core i5-4200y @ 1.40ghz 2358 intel core i7-4700eq @ 2.40ghz 7352 intel core i7-4700hq @ 2.40ghz 8066 intel core i7-4700mq @ 2.40ghz 7943
2，液晶顯示器是什么原理制造的
液晶是一種具有規(guī)則性分子排列的有機化合物，它即不是固體也不是液體，它是介于固態(tài)和液態(tài)之間的物質，把它加熱時它會呈現(xiàn)透明的液體狀態(tài)，把它冷卻時它則會出現(xiàn)結晶顆粒的混濁固體狀態(tài)。液晶按照分子結構排列的不同分為三種：粘土狀的smectic液晶，細柱形的nematic液晶和軟膠膽固醇狀的 cholestic液晶。這三種液晶的物理特性各不相同，而第二類的細柱形的nematic液晶最適于用來制造液晶顯示器。tn、stn、dstn三種液晶都屬于無源矩陣lcd，它們的原理基本相同，不同之處只是各個液晶分子的扭曲角度略有差異而已，其中dstn（俗稱“偽彩 ”）在早期的筆記本電腦顯示器及掌上游戲機上廣為應用，但由于其必須借用外界光源來顯像所以其有很大的應用局限性，但這些早期的反射型單色或彩色沒有背光設計的lcd可以做得更薄、更輕和更省電，如果能在技術上對其進行革新這些東東對于掌上型電腦和游戲機來說還是非常有用的。而tft薄膜晶體管型有源矩陣 lcd則是我們今天液晶顯示器上應用的主流，它具有屏幕反應速度快，對比度好，亮度高，可視角度大，色彩豐富等優(yōu)點。最早的液晶顯示器tn它由玻璃板，偏光器，ito膜，配向膜組成兩個夾層等組成，它是所有液晶顯示器技術原理的鼻祖。而tft液晶顯示器同tn系列液晶顯示器一樣由玻璃基板、ito膜、配向膜、偏光板等部分組成，它也同樣采用兩夾層間填充液晶分子的設計，只不過把tn上部夾層的電極改為fet晶體管，而下層改為共同電極。在光源設計上，tft的顯示采用“背透式”照射方式，即假想的光源路徑不是像tn液晶那樣的從上至下，而是從下向上，這樣的作法是在液晶的背部設置類似日光燈的光管。光源照射時先通過下偏光板向上透出，它也借助液晶分子來傳導光線，由于上下夾層的電極改成fet電極和共通電極。在fet電極導通時，液晶分子的表現(xiàn)如tn液晶的排列狀態(tài)一樣會發(fā)生改變，也通過遮光和透光來達到顯示的目的。但不同的是，由于fet晶體管具有電容效應，能夠保持電位狀態(tài)，先前透光的液晶分子會一直保持這種狀態(tài)，直到fet電極下一次再加電改變其排列方式。相對而言，tn系列液晶屏就沒有這個特性，液晶分子一旦沒有施壓，立刻就返回原始狀態(tài)，這是tft液晶屏的優(yōu)點。大家知道tft液晶顯示器的每個點都由紅綠藍三部分組成，一般情況下15寸分辨率為1024x768的tft液晶顯示器的點距為0.30mm左右。tft 液晶顯示器與crt顯示器不同，其具有固定的分辨率，只有在指定使用的分辨率下其畫質才最佳，在其它的分辨率下可以以擴展或壓縮的方式，將畫面顯示出來。一．工藝流程簡述： 前段工位： ito 玻璃的投入（grading）—— 玻璃清洗與干燥（cleaning）——涂光刻膠（pr coat）——前烘烤（prebreak）——曝光（develop） 顯影（main cure）——蝕刻（etching）—— 去膜（strip clean）—— 圖檢（insp）——清洗干燥（clean）——top 涂布（top coat）—— uv 烘烤（uv cure）—— 固化（main cure）——清洗（clean）—— 涂取向劑（pi print）——固化（main cure）—— 清洗（clean）——絲網(wǎng)印刷（seal/short printing）—— 烘烤（cuping furnace）—— 噴襯墊料（spacer spray）—— 對位壓合（assembly）—— 固化（seal main curing） 1． ito 圖形的蝕刻：（ito 玻璃的投入到圖檢完成） a． ito 玻璃的投入：根據(jù)產(chǎn)品的要求，選擇合適的ito 玻璃裝入傳遞籃具中，要求ito 玻璃的規(guī)格型號符合產(chǎn)品要求，切記ito 層面一定要向上插入籃具中。 b． 玻璃的清洗與干燥： 將用清洗劑以及去離子水（di 水）等洗凈ito 玻璃，并用物理或者化學的方法將ito 表面的雜質和油污洗凈，然后把水除去并干燥，保證下道工藝的加工質量。 c． 涂光刻膠： 在ito 玻璃的導電層面上均勻涂上一層光刻膠，涂過光刻膠的玻璃要在一定的溫度下作預處理：（如下圖） d． 前烘：在一定的溫度下將涂有光刻膠的玻璃烘烤一段時間，以使光刻膠中的溶劑揮發(fā)，增加與玻璃表面的粘附性。 e． 曝光：用紫外光（uv）通過預先制作好的電極圖形掩模版照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發(fā)生反應，在涂有光刻膠的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對光刻膠進行選擇性曝光：（如圖所示） f． 顯影：用顯影液處理玻璃表面，將經(jīng)過光照分解的光刻膠層除去，保留未曝光部分的光刻膠層，用化學方法使受uv 光照射部分的光刻膠溶于顯影液中，顯影后的玻璃要經(jīng)過一定的溫度的堅膜處理。（如圖：） g． 堅膜：將玻璃再經(jīng)過一次高溫處理，使光刻膠更加堅固。 h． 刻蝕：用適當?shù)乃峥桃簩o光刻膠覆蓋的ito 膜蝕掉，這樣就得到了所需要的ito 電極圖形，如圖所示： 注：ito 玻璃為（in2o3 與sno2）的導電玻璃，此易與酸發(fā)生反應，而用于蝕刻掉多余的ito，從而得到相應的拉線電極。 i． 去膜：用高濃度的堿液（naoh 溶液）作脫膜液，將玻璃上余下的光刻膠剝離掉，從而使ito 玻璃上形成與光刻掩模版完全一致的ito 圖形。（即按客戶要求進行顯示的部分拉線蝕刻完成，如圖） j． 清洗干燥：用高純水沖洗余下的堿液和殘留的光刻膠以及其它的雜質。 2． 特殊制程：（top 膜的涂布到固化后清洗） 一般的tn 與stn 產(chǎn)品不要求此步驟，top 膜的涂布工藝是在光刻工藝之后再做一次sio2 的涂布，以此把刻蝕區(qū)與非刻蝕區(qū)之間的溝槽填平并把電極覆蓋住，這既可以起到絕緣層的作用，又能有效地消除非顯示狀態(tài)下的電極底影，還有助于改善視角特性等等，因此大部分的高檔次產(chǎn)品要求有top 涂布。 3． 取向涂布（涂取向劑到清洗完成） 此步工藝為在蝕刻完成的ito 玻璃表面涂覆取向層，并用特定的方法對限向層進行處理，以使液晶分子能夠在取向層表面沿特定的方向取向（排列），此步驟是液晶顯示器生產(chǎn)的特有技術。 a． 涂取向劑：將有機高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采用選擇涂覆的方法，在ito 玻璃上的適當位置涂一層均勻的取向層，同時對取向層做固化處理。（一般在顯示區(qū)） b． 固化： 通過高溫處理使取向層固化。 c． 取向摩擦：用絨布類材料以特定的方向摩擦取向層表面，以使液晶分子將來能夠沿著取向層的摩擦方向排列。如tn 型號摩擦取向：45 度 d． 清洗： 取向摩擦后的玻璃上會留下絨布線等污染物，需要采取特殊的清洗步驟來消除污染物。 4． 空盒制作：（絲網(wǎng)印刷到固化） 此步工藝是把兩片導電玻璃對疊，利用封接材料貼合起來并固化，制成間隙為特定厚度的玻璃盒。制盒技術是制造液晶顯示器的最為關鍵的技術之一。（必須嚴格控制液晶盒的間距） a． 絲印邊框及銀點：將封接材料（封框膠）用絲網(wǎng)印刷的方法分別對上板印上邊框膠和和下板玻璃印是導電膠。 b． 噴襯墊料： 在下玻璃上均勻分布支撐材料。將一定尺寸的襯墊料（一般為幾個微米）均勻分散在玻璃表面，制盒時就靠這些材料保證玻璃之間的間距即盒厚。 c． 對位壓合： 按對位標記上與下玻璃對位粘合，將對應的兩片玻璃面對面用封接材料粘合起來。 d． 固化： 在高溫下使封接材料固化。固化時一般在上下玻璃上加上一定的壓力，以使液晶盒間距（厚度保持均勻）。 后段工位： 切割（scribing）—— y 軸裂片（break off）—— 灌注液晶（lc injection）—— 封口（end sealing）——x 軸裂片（break off）—— 磨邊—— 一次清洗（clean） ——再定向（heating） ——光臺目檢（visual insp）—— 電測圖形檢驗（electrical）——二次清洗（clean）—— 特殊制程（polygon）——背?。╞ack printing）—— 干墨（cure）—— 貼片（polarizer assembly）—— 熱壓（cleaver）—— 成檢外觀檢判（fqc） ——上引線（bit pin）—— 終檢（final insp）——包裝（packing）—— 入庫（in stock
3，地下連續(xù)墻施工中導墻起到的作用有
作為地下連續(xù)墻在地表面的基準物;確定地下墻單元槽段在實地的位置;作為地表土體的擋土墻;防止泥漿流失;作為容納和儲蓄泥漿的溝槽;作為挖槽機挖槽起始階段的導向物;作為檢測槽段形位偏差的基準物;作為鋼筋籠入槽吊裝時的支承物;作為頂拔接頭管時的支座。地下