研磨液應(yīng)該不會(huì)陌生吧，在化學(xué)機(jī)械研磨工藝中可扮演了一個(gè)很重要很重要的位置，研磨液中的研磨顆粒會(huì)機(jī)械化地摩擦晶圓的表面而且移除表面的薄膜。研磨液中的化學(xué)物質(zhì)會(huì)與表面薄膜或者研磨形成產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)將其薄膜溶解或者是形成化合物，zui后這個(gè)化合物會(huì)被研磨顆粒移除掉。研磨液中的添加物可以讓我們達(dá)到要求的研磨效果。
研磨液通常是指帶有研磨作用的研磨顆粒和化學(xué)添加物組成的水性化學(xué)溶液。不同的研磨制程需要不同的研磨液，因此研磨液通常會(huì)針對(duì)某一種特殊的應(yīng)用而作相應(yīng)的處理和配置。
研磨液的添加物可以控制ph值，可以影響到化學(xué)機(jī)械研磨工藝中的化學(xué)反應(yīng)并協(xié)助達(dá)到zui近的工藝結(jié)果。
研磨液在加工中的主要作用:
1.潤(rùn)滑作用，研磨液中的潤(rùn)滑耐高溫耐高壓能力能減少磨粒磨屑與研磨表面的摩擦，起到潤(rùn)滑的作用。
2.懸浮作用，研磨液能吸附在固定顆粒表面產(chǎn)生足夠高的位壘，讓顆粒分散開來達(dá)到分散懸浮的特點(diǎn)。
源興光學(xué)雙盤研磨機(jī)用于pcb電路板金相分析切片的研磨，拋光，讓切片晶亮透明，偏于分析切面組織和孔位組織結(jié)構(gòu)。 具有：正反轉(zhuǎn)，速度plc控制，噪音小等特點(diǎn)。
3.去損作用，堿性和硅發(fā)生化學(xué)反應(yīng)使后歩工序加工量變小，增加出片量，降低成本。
4.冷卻作用，冷卻性和潤(rùn)滑性并用，相互補(bǔ)充可以獲得優(yōu)越的使用效果。
5.清洗作用，選擇適宜表面活性劑和采用大的稀釋比水溶解，大大的提高了清洗的效果，讓研磨產(chǎn)物不會(huì)形成難清洗的表面吸附。
6.防銹作用，研磨液本身具備的功能。
源興光學(xué)-成立于1998年，歷經(jīng)20年發(fā)展，現(xiàn)主要產(chǎn)品有：線路板離子污染測(cè)試儀、全自動(dòng)3次元、源興二次元影像測(cè)量?jī)x、線路板x光檢查機(jī)，驗(yàn)孔機(jī)，外觀檢查機(jī)、線路板線寬檢測(cè)儀、金相工具顯微鏡、雙盤研磨機(jī)、測(cè)量軟件及l(fā)ed燈等產(chǎn)品。