磁控濺射儀的原理及運用
電子在電場e的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生e（電場）×b（磁場）所指的方向漂移，簡稱e×b漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的ar來轟擊靶材，從而實現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場e的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。
1.各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
2.裝飾領域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。3.作為一種非熱式鍍膜技術應用在微電子領域。4.化學氣相沉積（cvd）生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。5.在光學領域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。6.在機械加工行業(yè)中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的表面沉積技術自問世以來得到長足發(fā)展，能有效的提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩(wěn)定性能，從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。7.在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。
濺射設備
msp-mini超緊湊簡單但非常有光澤的金屬薄膜可以一鍵涂覆。
msp-1s低溫、低損傷型低壓涂層和浮動試樣底座可防止樣品損壞。
msp-40t可涂覆各種特殊金屬！這是一種多用途、多金屬、實驗性的離子濺射沉積系統(tǒng)，配備全自動濺射功能。
msp20-um貴金屬涂布機具有全自動功能！！可以詳細設置濺射條件，例如環(huán)境壓力調(diào)節(jié)，電流調(diào)節(jié)和ar氣體的引入。
msp20-mt4英寸貴金屬涂布機，具有全自動功能！！它可以處理大樣品和大量樣品。
用于msp20-tk fe-sem的鎢涂層機 可以涂覆mo/cr/ni/cu等金屬。
msp-8 英寸 8 英寸樣品架和目標安裝?。〈趴匕须姌O配備與8英寸晶圓兼容的大面積樣品臺。
msp-12in（定制）配備 12 英寸樣品架。磁控管靶電極可以從φ300 mm尺寸和φ50 mm尺寸中選擇。