光電催化氧化設(shè)備 （↑上方進(jìn)入該公司展臺(tái)查看電話）
uv光催化設(shè)備的特點(diǎn)：
①uv光催化設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物、硫化氫、氨氣等無(wú)機(jī)物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭功率高達(dá)99%以上，脫臭作用大大優(yōu)于公布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)；
②uv光催化設(shè)備無(wú)任何機(jī)械裝置，無(wú)運(yùn)動(dòng)噪音，無(wú)需專人辦理和日常保護(hù)，只需求作定時(shí)查看保護(hù)，保護(hù)和能耗本錢低，風(fēng)阻極低，可節(jié)省很多排風(fēng)?動(dòng)力能耗，到達(dá)節(jié)能的意圖；
③uv光催化設(shè)備選用光解原理，采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕功能高，設(shè)備功能安全安穩(wěn)，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場(chǎng)合；?④uv光催化設(shè)備無(wú)需惡臭氣體進(jìn)行特別的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備作業(yè)環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、ph值在2~13規(guī)模均可正常作業(yè)，無(wú)需增加其他物質(zhì)及藥劑參與處理；
⑤uv光催化設(shè)備可依據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小，進(jìn)行靈敏裝備，選用抽屜式插拔裝置形式，配件一致，裝置及保護(hù)便利；備件可在線保護(hù)和替換，便利靈敏。
uv光解氧化技能
光解氧化是指在必定波長(zhǎng)光照條件下,半導(dǎo)體資料發(fā)生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結(jié)合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機(jī)物大分子降解為二氧化碳或其他小分子有機(jī)物以及水,在反響過(guò)程中這種半導(dǎo)體資料也便是光解劑自身不發(fā)生變化。 hjuv---系列tio2光解催化氧化設(shè)備是依據(jù)國(guó)內(nèi)外廢氣處理設(shè)備的*技能并在多年出產(chǎn)光解催化氧化設(shè)備的基礎(chǔ)上，改善的新一代tio2光解催化氧化設(shè)備， 本產(chǎn)品運(yùn)用uv紫外線技能(波段184.9nm-253.7nm)，產(chǎn)生臭氧，游離活性氧離子。通過(guò)高能紫外線光破壞降解分子鍵及協(xié)同分化氧化反響去除有機(jī)污染物。