plasma清洗機和plasma表層處理儀利用電離產生等離子體到達傳統清潔方法所不能到達的效(果)。等離子是一種物質狀態(tài)，俗稱第四種物質狀態(tài)。向汽體中施加足夠的能量，使其處于電離狀態(tài)。等離子的活性成分包括離子、電子、活性官能團、受激核(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。plasma清潔機巧用這些活性成分的特性對樣品表層進行處理，故而到達清潔等目地。
產生plasma清洗機中的等離子體的裝置是將兩個電極放入密封容器中，形成電場，然后通過真空泵到達某個真空度。隨著汽體變薄，分子與分子或離子之間的自由移動距離變長。它們在電場的作用下碰撞形成等離子體。他們有很高的活性和能量，可以破壞幾乎所有的化學鍵，在暴露的表層產生化學反應。不一樣汽體的等離子體有不一樣的化學性質。舉例來說，氧等離子體具有高氧化性能，能氧化光刻膠產生汽體，故而到達清潔效果。腐蝕性汽體等離子體各向異性好，能滿足腐蝕需要。在plasma清洗機的過程中，所以叫做輝光放電處理。
plasma清洗機主要依靠等離子體中活性顆粒的(活性)化來去除物體表層的污漬。在反應機理方面，plasma清洗器一般包括：無機汽體被激發(fā)為等離子體狀態(tài)；氣相物粘附在固態(tài)表層上；粘附官能團與固態(tài)表層分子發(fā)生反應，生成產物分子；分析產物分子形成氣相；分析產物分子形成氣相；反應殘余從表層分離。聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂甚至聚四氟乙烯等聚合物材料都可用于處理金屬、半導體、氧化物和大部分聚合物材料，不管需要處理的基材類型如何。也可以清潔整體、局部、復雜的結構。